王玫杨培东 华裔科学家王中林与杨培东获得美国材料研究学
留学人才网--新闻频道:美国材料研究学会日前公布了2011年度材料研究学会奖获奖名单,两位华人科学家囊括此奖。
其中佐治亚理工学院教授王中林获奖,以表彰他“在氧化锌纳米线和纳米带的发现、控制生成和基础认识方面,以及在基于纳米线的纳米感应器、纳米发电机和压电电子学的设计制造领域中的开创性贡献”。
加州大学伯克利分校教授杨培东获奖,以表彰他“在半导体纳米线和异质结构研究中采用创新性合成和装配工艺、并将研究成果应用于基于纳米线的光电、热电、太阳能转化和纳米流体之中的杰出贡献”。
美国材料研究学会奖授予过去10年中在材料研究领域作出杰出贡献者;获奖者的研究工作对相关领域进展的推进是获奖的重要因素。每位获奖者将获得5000美元奖金、一枚奖章和获奖证书。
美国材料学会将于11月30日在波斯顿举行的美国秋季材料年会上颁奖,王中林和杨培东将应邀作报告,介绍自己的工作。
王中林1961年出生于中国陕西省蒲城县,现为美国佐治亚理工学院纳米结构表征中心主任、工程学杰出讲席教授。他同时也是中国科学院外籍院士,美国物理学会、美国科学促进会士、美国显微镜学会和美国材料研究学会的会士。